Exhibitor search
新一代紫外波長(zhǎng)172nm,適用于一般實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)加工;
超越365nm等傳統(tǒng)光刻波長(zhǎng),體統(tǒng)新的實(shí)驗(yàn)方法;
有機(jī)聚合物襯底無需光刻膠,直接得到圖形和溝道;
光刻分辨率:<0.5um,典型值可達(dá)0.35um;
快速:典型30-100s一次光刻;
可置于手掌的紫外光刻-表面處理系統(tǒng);
無需超凈間,辦公桌就可完成光刻。
If you have already registered, please login Visitor Login
Not yet registered? Register now! Pre-register