1、該設備爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻； 2、可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間。 該款設備是全自動Plasma增強CVD系統（PECVD）,系統可以實現連續滑動溫區，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以實現低壓條件下的實驗，針對低溫石墨烯、碳納米管生長等。PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象。