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展位號:A11
地址: 北京市朝陽區馬甸裕民路12號元辰鑫大廈E2座2313-2315室
網址: http://www.testrend.com
光刻機
新一代紫外波長172nm,適用于一般實驗室實現亞微米級加工;
超越365nm等傳統光刻波長,體統新的實驗方法;
有機聚合物襯底無需光刻膠,直接得到圖形和溝道;
光刻分辨率:<0.5um,典型值可達0.35um;
快速:典型30-100s一次光刻;
可置于手掌的紫外光刻-表面處理系統;
無需超凈間,辦公桌就可完成光刻。
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