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展商搜索  > 江蘇邁納德微納技術有限公司

展位號:H21

地址: 江蘇省無錫市新吳區菱湖大道228號天安智慧城3-104

產品詳情

原子層沉積系統(熱型ALD)

反應腔體:橫流模式的單腔反應腔/噴淋模式的雙腔反應腔

襯底規格:4-12寸單片;三維復雜襯底/粉末與顆粒/多孔及高縱深比材料;RT-400 oC,控制精度±0.5 oC@單腔;RT-500 oC,控制精度±0.5 oC@雙腔

閥門:Swagelok專用ALD閥門,耐熱溫度200 oC

前驅體源:液態、固態、氣態以及臭氧源,容器標準50 mL揮發式容器和100 mL載氣輔助式容器,其他規格可定制;最高可配備8路前驅體源

載氣:N2或者Ar,質量流量控制器

管路源容器加熱溫度:配可拆卸加熱套,RT-250 oC,控制精度±0.5 oC

真空系統:油泵、防腐油泵、干泵可選

壓力傳感器:檢測范圍1000-2.3*10-4 Torr

真空管路:烘烤至200℃,且真空泵前級配置熱阱,加熱溫度300℃

控制:觸摸屏+PLC

機柜:可移動鋁型材框架,不銹鋼面板

最小尺寸:720*700*1000mm

最大尺寸:1000*1000*1000 mm

選配:臭氧發生器/粉末沉積盤/手套箱耦合/QCM;尾氣處理裝置

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