ALD化學氣相沉積是將不同的反應前驅物以氣體脈沖的形式交替送入反應室中并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法。2個316L不銹鋼源瓶與2路進氣管路連接，多根加熱管給2個源瓶加熱，2路進氣管道上各自安裝一個ALD閥門（該閥門由ALD控制面板控制）、控制2路管道交替脈沖輸入，多根加熱管給ALD通道加熱，保證被汽化液體保持汽化狀態進入反應區域，多個旁通支路、可以通其它氣體或運載氣體。