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磁控離子濺射儀 GVC-2000
1.采用單片機單片機作為處理器,具有自主知識產權,擴展性好,可為用戶進行定制化開發;
2.5.1英寸觸摸操作液晶顯示屏,可現實設定濺射電流、濺射時間,工作濺射電流、剩余濺射時間等參數;
3.濺射電流可在5-45mA內隨意調節,最小步長為1mA;
4.濺射真空度獨立控制,與濺射電流無關,且最小調節量0.1Pa;
5.系統提供金、鉑對于空氣和氬氣的工作參數,可直接使用。同時提供3種自定義靶材,用戶可根據自己需求設定工作參數;
6.濺射時間設定范圍為1-600秒,最小調節量為1秒;
7.具備濺射電流、真空度雙重互鎖,安全可靠,任一調節觸發,系統即可停止工作,防止因為誤操作導致設備損壞;
8.極限真空優于1Pa,真空泵抽速為1L/s;
9.系統具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能、屏幕亮度調節功能、系統工作時間和靶材使用時間顯示等功能,非常方便用戶了解系統工作狀態。