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展品介紹:本品是在超高真空條件下,通過蒸鍍方式,在樣品基底上生長薄膜的設備,樣品溫度可控
主腔室真空度:好于1*10-10mbar
四維移動平臺:
XY方向移動范圍:±12.5mm
Z方向移動范圍:100mm,用戶可選擇
Z軸可旋轉±180°
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