反應腔體：橫流模式的單腔反應腔/噴淋模式的雙腔反應腔

襯底規(guī)格：4-12寸單片；三維復雜襯底/粉末與顆粒/多孔及高縱深比材料；RT-400 oC，控制精度±0.5 oC@單腔；RT-500 oC，控制精度±0.5 oC@雙腔

閥門：Swagelok專用ALD閥門，耐熱溫度200 oC

前驅(qū)體源：液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)以及臭氧源，容器標準50 mL揮發(fā)式容器和100 mL載氣輔助式容器，其他規(guī)格可定制；最高可配備8路前驅(qū)體源

載氣：N2或者Ar，質(zhì)量流量控制器

管路源容器加熱溫度：配可拆卸加熱套，RT-250 oC，控制精度±0.5 oC

真空系統(tǒng)：油泵、防腐油泵、干泵可選

壓力傳感器：檢測范圍1000-2.3*10-4 Torr

真空管路：烘烤至200℃，且真空泵前級配置熱阱，加熱溫度300℃

控制：觸摸屏+PLC

機柜：可移動鋁型材框架，不銹鋼面板

最小尺寸：720*700*1000mm

最大尺寸：1000*1000*1000 mm

選配：臭氧發(fā)生器/粉末沉積盤/手套箱耦合/QCM；尾氣處理裝置