1、主要用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝,也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱,PID程序控溫儀控制,溫控儀可設定30段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采用超輕質高鋁纖維材料,具有熱容小、溫度升降控制靈活、節能等特點,設備可根據真空度的需要分別選用機械泵或其他真空機">

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Exhibitor search  > HEIFE CPI EQUIPMENTt & TECHNOLOGY CO., LTD

NO:R20

ADD: 安徽省合肥市新站區穎河路22號

Product Details

1、主要用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝,也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱,PID程序控溫儀控制,溫控儀可設定30段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采用超輕質高鋁纖維材料,具有熱容小、溫度升降控制靈活、節能等特點,設備可根據真空度的需要分別選用機械泵或其他真空機組,非常適合于試驗和小批量生產之用。

2、該設備為密封式是加熱腔體,確保設備可在真空條件下,或者一些特殊氣氛條件下使用,相比普通箱式爐,使用環境更靈活,使用范圍更廣泛。

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