ALD化學(xué)氣相沉積是將不同的反應(yīng)前驅(qū)物以氣體脈沖的形式交替送入反應(yīng)室中并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種方法。2個(gè)316L不銹鋼源瓶與2路進(jìn)氣管路連接，多根加熱管給2個(gè)源瓶加熱，2路進(jìn)氣管道上各自安裝一個(gè)ALD閥門（該閥門由ALD控制面板控制）、控制2路管道交替脈沖輸入，多根加熱管給ALD通道加熱，保證被汽化液體保持汽化狀態(tài)進(jìn)入反應(yīng)區(qū)域，多個(gè)旁通支路、可以通其它氣體或運(yùn)載氣體。

真空熱壓爐是將真空/氣氛、熱壓成型、高溫?zé)Y(jié)結(jié)合在一起設(shè)備，適用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高溫?zé)岢尚汀Ｈ鐟?yīng)用于透明陶瓷、工業(yè)陶瓷等金屬以及由難容金屬組成的合金材料的真空燒結(jié)以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高溫?zé)Y(jié)，也可用于粉末和壓坯在低于主要組分熔點(diǎn)的溫度下的熱處理，目的在于通過顆粒間的冶金結(jié)合以提高其強(qiáng)度。

 

主要參數(shù)：

1、最高溫度：1200℃

2、加熱區(qū)尺寸(mm)：Φ130×205（mm）

3、工作區(qū)尺寸(mm)：Φ100×100（mm）

4、壓力控制系統(tǒng)：可通過爐體上的觸摸屏設(shè)置壓力、保壓時(shí)間等參數(shù)

5、保壓時(shí)間：按需設(shè)置

6、最大壓制行程： 100mm

7、壓頭尺寸：60mm

8、加壓壓力精度： ±100Kg

9、最大壓力： 5T （10MPa表壓）

10、水冷機(jī)：冷卻水額定壓力：0.1～0.2 MPa

本產(chǎn)品主要供大專院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。

 

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進(jìn)出料方便，占地空間較小。

2、可以50段程序控溫，控溫精確，可以控制升溫速率和恒溫時(shí)間。

3、可以方便的更換不同的線圈以滿足熔煉不同千克數(shù)的物料。

4、安裝有觀察孔，可以清晰觀察到爐內(nèi)坩堝物料的情況。

5、安裝有紅外測溫儀，可以精確的測量加熱套的溫度。

6、配有分子泵，真空度可達(dá)8×10-4Pa。

7、安裝有水冷機(jī)，水冷機(jī)具有欠壓和斷水報(bào)警，使用安全可靠。

8、采用IGBT電源，具有過溫、斷水保護(hù)、報(bào)警、輸出電流顯示等功能。

9、電極和坩堝可以在爐體外手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，液體可以在腔體內(nèi)完成傾倒和澆鑄，這樣就避免了澆鑄的危險(xiǎn)和可以在真空下澆鑄。

10、具有二次加料系統(tǒng)。

11、轉(zhuǎn)動(dòng)電極和爐體之間采用威爾遜密封，密封性能好，轉(zhuǎn)動(dòng)教輕松。