專利的納米探針制作技術，探針間距可小于500nm, 能對微納器件和薄膜的電學參數進行精密測試。并可與光學顯微鏡和SEM兼容進行測試。

多種規格的陣列納米探針可選。

集成XYZ精密調節臺。

可集成源表及軟件進行表面電阻，CV，IV測試。

共聚焦顯微設計，具有衍射極限的空間分辨率；

模塊化設計，兼容多種測試方法；

TRPL時間分辨光致發光熒光壽命成像FLIM分析；

Raman分析功能；

AFM分析模塊功能。

uber G670第一次以Guinier幾何結構，提供了一種現代圖像板檢測方法（image plate）。使用簡單，可以在幾分鐘內獲得所需的數據。實際分辨率0.005度。可以配置超低溫，高溫，高壓，氣氛保護，毛細管等多種樣品環境。

CT-Nano是第一款商業化的SEM-CT聯用系統，適用SEM可以進行0.7納米的表面形貌分析及其他SEM表征。同一系統能進行實際空間分辨率達60nm的CT三維重構分析。是材料科學研究的又一得力工具。

JCM-7000臺式掃描電子顯微鏡是日本電子新推出的一款臺式掃描電子顯微鏡，其不僅具有大型掃描電鏡的功能，相對于大型掃描電鏡其操作簡單，維護保養容易，體積小巧，價格低廉，檢測速度快，從啟動裝填樣品到測試出結果僅需5分鐘左右。JCM-7000還創新的加入了實時能譜分析和實時3D顯示的功能，更人性化的服務于您的研究和工作。

Robo-Met.3D 三維微結構分析測試系統，是美國UES公司和美國空軍實驗室聯合設計開發的系統。為材料分析領域提供了一種高精度和全自動的三維微結構重構分析平臺。可廣泛應用到各種材料領域快速獲得3D微結構數據和分析。

自動拋磨重構層數：最大可至200層；

分辨率：光學顯微鏡200納米，SEM 3nm。

高光譜成像是將成像技術和光譜分析技術的結合，將以前常用的單點光譜分析技術拓展至空間的多點成像.

EOS高光譜系統既可以實現宏觀大范圍成像，也可以實現微區分析成像。具有成像質量高，無鬼影，光譜分辨率高，波段范圍寬等特點