一、產(chǎn)品概述

1、適用：大專(zhuān)院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。

2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：

? 設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，價(jià)格優(yōu)惠，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；

? 設(shè)備配備4～6組蒸發(fā)源，兼容有機(jī)蒸發(fā)與無(wú)機(jī)蒸發(fā)，多元共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強(qiáng)大，性能穩(wěn)定；

? 適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜，也可用于生產(chǎn)線(xiàn)前期工藝試驗(yàn)等；

? 適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機(jī)融合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝無(wú)縫對(duì)接，廣泛用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池/OPV有機(jī)太陽(yáng)能電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。

 

二、技術(shù)參數(shù)

型號(hào)：ZHDS400

鍍膜方式：多源蒸發(fā)鍍膜

真空腔室結(jié)構(gòu)：方箱式前后開(kāi)門(mén)；配置手套箱

真空腔室尺寸：L400×W440×H450mm

加熱溫度：室溫～300℃

旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)：120mm×120mm

基片臺(tái)升降：手動(dòng)調(diào)節(jié)升降高度0～80mm

膜厚不均勻性：≤±5.0%

蒸發(fā)源：2組金屬源，2～4組有機(jī)源

控制方式：PLC/PC自動(dòng)控制系統(tǒng)可選

占地面積：主機(jī)L1100×W780×H1800mm，手套箱尺寸定制

總功率：≥10KW