一、產品概述

1、適用：大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。

2、產品特點/用途：

?設備可濺射/蒸發兩用；占地面積小，價格便宜，性能穩定，使用維護成本低；

?可用于制備單層及多層金屬膜、介質膜、半導體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質膜、耐腐蝕膜等；

?鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；

?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

 

二、技術參數

型號：JCP500

真空腔室結構：立式前開門結構，后置抽氣系統

真空腔室尺寸：Φ500×H420mm

加熱溫度：室溫～500℃

濺射方式：上下濺射可選

旋轉基片臺：Φ150mm

膜厚不均勻性：Φ100mm范圍內≤±5.0%

濺射靶/蒸發電極：Φ3英寸磁控靶3支，兼容DC/MF/RF濺射

工藝氣體：2~3路氣體流量控制

控制方式：PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統

占地面積：(主機）L1900×W800×H1900mm

總功率：≥10KW