一、產品概述

1、適用：大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。

2、產品特點/用途：

?設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；

?適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等；

?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。

二、技術參數

型號:TEMD500

真空腔室結構:立式圓柱形側開門結構，后置抽氣系統

真空腔室尺寸:Φ500×H650mm

加熱溫度:室溫～300℃

旋轉基片臺:平板型Φ200mm

膜厚不均勻性:≤±5.0%

考夫曼離子源:可選

蒸發源:電子槍8KW，6穴坩堝 國產進口可選，配3-3組電阻蒸發

控制方式:PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統

占地面積:長×寬 L2500×W1600mm

總功率:≥17KW